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RPAO: repositório de padrões de análise mapeados em ontologias
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| Autor | Galina, Cristiano Tonietto; |
| Lattes do autor | http://lattes.cnpq.br/0107065050849957; |
| Orientador | Pinto, Sérgio Crespo C. S.; |
| Instituição | Universidade do Vale do Rio do Sinos; |
| Sigla da instituição | UNISINOS; |
| País da instituição | Brasil; |
| Instituto/Departamento | Escola Politécnica; |
| Idioma | pt_BR; |
| Título | RPAO: repositório de padrões de análise mapeados em ontologias; |
| Resumo | A aplicação de padrões de análise visa promover o reuso, de maneira eficiente, de boas práticas da engenharia devsoftware. O reuso deve-se à experiência dos engenheiros de software ao identificar os padrões e descrevê-los de forma que outros projetos também usufruam do padrão de análise já identificado. A engenharia de requisitos tem uma grande influência na descoberta de padrões de análise. Esta dissertação se propõe a criar um repositório de padrões de análise, visto que o mercado não oferece hoje uma ferramenta propícia para o armazenamento dos padrões de análise e mapeamento em ontologias no formato OWL. As ontologias são geradas pelo software toda vez que um padrão é catalogado, portanto, todo padrão documentado é disponível por uma ontologia com a estrutura do padrão. Além do armazenamento de padrões de análise, a ferramenta realiza um mapeamento com requisitos e artefatos, os quais possivelmente originam um padrão, desta forma apresentando uma base de conhecimento do padrão. Em seguida é possível visu; |
| Abstract | Application of analysis patterns aims at promoting reuse under efficient software engineering. Reuse is due to software engineers’ experience in identifying patterns and in describing them in a way that other kinds of projects are able to employ analysis patterns already identified. Engineering of requisites has great influence in developing analysis patterns. This paper aims at creating a selection of analysis patterns once there are not many tools available for the storage of such patterns. It also aims at mapping them under the OWL format ontologism. Ontologies are generated by the software every time that a pattern is categorized, therefore, all documented pattern is available by the ontology regarding its pattern structure. Besides the pattern storage of analysis, the tool also performs a mapping with the requisites and the artifacts, which are likely to produce a pattern that present the basis of the knowledge pattern. Following, it is possible to visualize the reuse of patterns through a graphic deve; |
| Palavras-chave | engenharia de requisito; padrão de análise; reuso; software; engenharia; |
| Área(s) do conhecimento | Ciências Exatas e da Terra; |
| Tipo | Dissertação; |
| Data de defesa | 2007-02-27; |
| Agência de fomento | Nenhuma; |
| Direitos de acesso | openAccess; |
| URI | http://www.repositorio.jesuita.org.br/handle/UNISINOS/2240; |
| Programa | Programa de Pós-Graduação em Computação Aplicada; |
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PPG Computação Aplicada [359]
PPG Computação Aplicada